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平面全息光柵

簡要描述:平面全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料,將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間,使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋,條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定,干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。

  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2023-01-04
  • 訪  問  量:952

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
組件類別其他應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

平面全息光柵


全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料,將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間,使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋,條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定,干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的,所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓,正弦和閃耀。


600l/mm---UV


1200l/mm---UV


1800l/mm---UV


2400l/mm---UV


3600l/mm---UV


1200l/mm---VIS


1800l/mm---VIS


2400l/mm---VIS


特征

光柵基片材料:

浮法玻璃

表面光潔度:

60-40

尺寸誤差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

45%~65% @峰值波長

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2(CW)連續(xù)激光


產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

尺寸

刻線數(shù)

優(yōu)化波段

色散

379500

平面光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379501

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379502

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379503

平面光柵 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379504

平面光柵 12.7x12.7x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379505

平面光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379506

平面光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379507

平面光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379508

平面光柵 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379509

平面光柵 25x25x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379510

平面光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379511

平面光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379512

平面光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379513

平面光柵 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379514

平面光柵 50x50x9.5mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379515

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

可見 (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379516

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

可見 (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379517

平面光柵 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

2400Lines/mm

可見 (VIS)

0.33nm/mrad@500nm

379518

平面光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

可見 (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379519

平面光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

可見 (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379520

平面光柵 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

2400Lines/mm

可見 (VIS)

0.33nm/mrad@500nm

379521

平面光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

可見 (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379522

平面光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

可見 (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379523

平面光柵 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

2400Lines/mm

可見 (VIS)

0.33nm/mrad@500nm




全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料,將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間,使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋,條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定,干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的,所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓,正弦和閃耀。全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料,將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間,使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋,條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定,干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的,所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓,正弦和閃耀。全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料,將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間,使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋,條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定,干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的,所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓,正弦和閃耀。

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